تشكيل الألياف الضوئية

تشير عملية MCVD إلى طريقة ترسيب البخار الكيميائي المحسّنة ، والتي تتكون من خطوتين عمليتين للترسيب والانكماش الذائب (تشكيل قضيب). الترسيب هو تسخين أنبوب تفاعل الكوارتز عالي الجودة المُعد مسبقًا بلهب الأكسجين الهيدروجين ، واستخدام الأكسجين عالي النقاء كغاز ناقل ، ووضع نسبة معينة من SiCl4 و GeCl4 عالي النقاء في أنبوب تفاعل الكوارتز ، والتفاعل لتوليد SiO2 وجزيئات GeO2 الجزيئية الصغيرة ، التي تترسب على الجدار الداخلي لأنبوب تفاعل الكوارتز وفقًا لمبدأ الترحيل الحراري. الانكماش الذائب هو إذابة وتقليص أنبوب زجاج الكوارتز المجوف المترسب في شكل ألياف بصرية صلبة عن طريق إدخال غاز الكلور. تتميز العملية بالمرونة في التشغيل ، ويمكنها التحكم بدقة في تدفق المواد الخام وعدد طبقات الترسيب ، ويمكن أن تنتج أشكالًا من الألياف الضوئية مع ملف تعريف مؤشر الانكسار الدقيق ، مما يؤدي إلى التحكم في أداء الألياف الضوئية.

تشير عملية VAD إلى طريقة ترسيب البخار المحوري. وتتمثل العملية في تبخير المادة الخام تحت ظروف تسخين لهب الأكسجين والهيدروجين ، والتحلل المائي في اللهب لتوليد جزيئات SiO2 و GeO2. يتم ترسيب هذه الجسيمات على القضيب الأولي المحوري ، ويتم تعديل توزيع معامل الانكسار عن طريق التحكم في درجة حرارة الترسيب والسرعة ومعدل تدفق الغاز وهيكل الحقن وعوامل أخرى. بعد التجفيف والتلبيد ، تتم إزالة جزيئات الماء وجذور الهيدروكسيل في المنطقة الأساسية من التشكيل لتشكيل قلب التشكيل الشفاف. تتميز هذه العملية بمزايا سرعة وكفاءة الترسيب العالية ، وليس من السهل خلط الشوائب ، والغرابة الصغيرة في اللب والكسوة والاقتصاد الجيد.

تشير عملية OVD إلى طريقة ترسيب البخار خارج الأنبوب. على غرار مبدأ VAD ، يتم تحويل المواد الخام إلى غاز تحت ظروف تسخين لهب الهيدروجين والأكسجين ، ويحدث تفاعل التحلل المائي في اللهب لتوليد الجزيئات. تترسب هذه الجسيمات على السطح الخارجي للقضيب الأولي. بعد الوصول إلى حجم معين وإزالة القضيب الأولي ، يتم تجفيف التشكيل المجوف وتلبيده لتشكيل تشكيل صلب شفاف. تتمثل مزايا هذه العملية في سهولة التحكم في العملية ، وكفاءة الإنتاج عالية ، وهي مناسبة لتصنيع أشكال الألياف الضوئية كبيرة الحجم.

الوسم : تشكيل الألياف الضوئية